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  • W6型全谱直读光谱仪

    W6型全谱直读光谱仪

    W6型全谱直读光谱仪全谱直读光谱仪是金属材料领域能够提高检测效率的仪器全新立式全谱光谱采用国际标准的设计和制造工艺技术,采用全数字技术,替代庞大的光电倍增管(PMT)模拟技术,与国际光谱仪技术同步,采用真空光学室设计及全数字激发光源、**的CCD检测器,高速数据读出系统,使仪器具有极高的性能、极低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。产品特色优化设计的真空光学系统1、整体光学室装置、帕邢-龙格结构设计,所有谱线集成在罗栏园上。2、直射式光学技术及透镜MgF2材料,保证C、S、P、N紫外波长的能量。全数字激发光源全数字、高能预燃技术(HEPS),不同样品设置不同的激发参数,提高样品的测量精度和相似性,提高样品激发速度,提高火花稳定性,使样品有更好的重现性。功能性设计的激发装置1、集成气路、喷射电极技术,开放式铜火花台,不仅保证样品测量精度还能购测量各种复杂形状的样品(含线材)。2、单板式透镜装置设计,一般人员都能方便对激发台进行进行维护和透镜的清洗。高集成、高速度读出系统1、高性能CCD固态检测技术,波段内谱线全谱接收。2、FPGA及高速数据通讯技术,数据读入功能强大,检测数据整体读入时间短。直观、易操作的分析软件1、基于WINDOWS系统的多国语言的CCD全谱分析软件全方位的管理和控制整个测量过程,为用户提供强大的数据处理能力和测试报告输出能力。2、仪器在软件中配备多条工厂校正曲线及更多材质分析及先进的解决方案。3、仪器实现全谱分析,智能扣干扰,扣暗电流、背景和噪声的算法,极大的提高了仪器的分析能力。
  • PG-2、PG-2A抛光机

    PG-2、PG-2A抛光机

    PG-2、PG-2A抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的,它具有造型美、结构合理、传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点。该机可供双人同时操作,抛光盘直径与传递功率均大于国内多数同类产品,能适合更多种材料的抛光要求,是试样抛光的理想设备。本产品分落地式和台式两种,供用户选择。主要参数:抛光盘直径:双盘220mm转  速:900r/min,1400r/min(定制)电 动 机:YS7116 0.2kW 380V/220V 50Hz外形尺寸:800×420×920mm重  量:38Kg
  • 金相试样制备

    金相试样制备

    在金相试样制备过程中,预磨是抛光前必不可少的前道工程,先将试样预磨光后,可提高试样制备的功效,为适应在多种材料预磨的需要,该机的磨盘直径大于国内多数同类产品,磨盘的转速也不同于国内多数同类产品,是试样预磨的理想设备。主要参数:磨盘直径:双盘250mm砂纸直径:230mm转  速:400r/min,500r/min(630r/min,780r/min定制)电 动 机:YSR7146,0.55kW , 380V(220V需定制), 50Hz外形尺寸:740×700×310mm重  量:55Kg
  • TY-9000型全谱直读光谱仪

    TY-9000型全谱直读光谱仪

    TY-9000型全谱直读光谱仪TY-9000型全谱直读光谱仪采用国际标准的设计和制造工艺技术,采用全数字化技术,替代庞大的光电倍增管(PMT)模拟技术,与国际光谱仪技术同步,采用真空光室设计及全数字激发光源、**的CCD检测器、高速数据读出系统,使仪器具有高性能、低检出线、长期的稳定性和重复性。技术特点:1、高性能光学系统:《1光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室,实现光路直通,有效的降低光路损耗;《2》高性能光学系统设计及采用高精度的光学元件可精确测定非金属元素中C、P、S、N以及各种元素含量;《3》测定结果**,重现性及长期稳定性高。2、自动光路校准:《1》自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作;《2》仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定。3、单板式透镜设计:《1》真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离,可在真空系统工作状态下进行操作,光学透镜采用单板式透镜结构,日常清洗维护方便快捷。《2》在日常工作中仪器无需维护,也没有消耗品及更换零部件。4、真空室一体化:《1》独特的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空速度不到普通光谱仪的一半。《2》真空室一体化设计及高精密的加工,使真空保持的更加持久。5、真空防返油技术:《1》多级隔离的真空防返油技术,采用真空压紧、挡板阀保证真空泵不工作时间真空光室与真空完全隔离。《2》中间增加了真空滤油装置,确保真空泵中油不进入真空室,保障CCD检测器及光学元件在可靠环境中工作。6、开放式激发台:《1》开放式激发台机灵活的样品夹设计,以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。《2》配合使用小样品夹具,线材分析可达到1.5mm。7、喷射电极技术:《1》采用国际先进的喷射电极技术,使用钨材料电极,在激发状态下,电极周围会形成氩气喷射气流,这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触,提高激发精度。《2》配上独特氩气气路设计,大大降低了氩气使用量,也降低客户使用成本。8、集成气路模块:《1》激发台采用散热性能好的合金材料制作,不仅坚固、耐用而且清洁方便。《2》供气系统采用集成气路模块,电极自吹扫功能,为激发创造了良好的环境。9、全数字化激发光源:《1》全数字激发光源,采用国际先进的等离子激发光源,稳定能量释放在氩气环境中激发样品。《2》全数字激发脉冲,确保激发样品等离子体高分辨率和高稳定率输出。《3》满足各种不同材料的激发要求。10、高速数据采集:《1》仪器采用高性能CCD器件,紫外镀膜技术及高性能FPGA、DSP及ARM处理器。《2》具有高速数据采集分析功能,并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。11、以太数据传输:《1》计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议,避免电磁干扰,光纤老化的弊端,同时计算机和打印机完全外置,方便升级和更换。《2》完备的网络系统。《3》可以远程监控仪器状态,多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。12、预制工作曲线:《1》根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异,激发和测试参数仪器出厂时已经调节好,根据分析程序可自动选择适合的测试条件。《2》长期以来工厂积累了大量的经验以及全面的国际标样库,仪器出厂时工厂预制工作曲线,使用户拿到仪器后可投入使用。《3》技术规格中附有分析范围(并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线)。13、分析速度快捷:《1》分析速度快捷,为客户节约了宝贵的时间,20秒内可测完所有通道的元素成分。《2》针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及测量时间,使仪器用短时间达到很快的分析效果。14、多基体分析:《1》光路设计采用罗栏园结构,CCD上下交替排列,保证接收全部的谱线,不增加硬件设施,即可实现多基体分析。《2》便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素。《3》相比光电倍(PMT)光谱仪可大大减低使用成本及使用范围。15、软件多国语言:《1》仪器操作软件完全兼容于Windows系统,同时可以根据客户需求配备各种语言版本。《2》软件操作简单,即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。
产品信息分类:
全部 直读光谱仪 金相部分 手持式X荧光光谱仪 探伤仪 铁水碳硅分析仪 氩气净化器 硬度计 冲击试验机 测温仪
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碳硅分析仪CEM-07/E

碳硅分析仪CEM-07/E主要测定铁水的CEL、Si、C等化学成分。其特点是测量范围宽广,适合孕育前、孕育后和球化后的铁水测量,是铸造分析仪器中性价比较高的一种,该仪表操作简便,只需铸造现场工人即可完成测量工作。测量功能测量碳当量(CEL),碳含量(C),硅含量(Si)、过冷度(△T)测量范围型号K(NiSi-Ni)400-1370℃,C2.8-4.2 Si0-20 CEL2.5-5.0精度≤±1℃  CEL±0.05%  C±0.5%  Si±0.1%显示4位LED显示,字高45mm,分辨率1℃操作方式9按键选择参数,AUTO键循环显示CEL、C、Si,通过仪表底部电位器调整C、Si参数外形尺寸长260mm 宽 230mm 高 150mm工作参数电源180-240V,50Hz,功率10VA-35VA,环境温度0℃-50℃测量过程绿灯准备,黄灯测量,红灯结束

多功能碳硅分析仪BS535

多功能碳硅分析仪BS535炉前快速测定铁水中的CEV,CEL、C、Si、TL、TS、Sc、过冷度(△T),K(品质系数),MEG(共晶团数)具有双分析测量功能,在同一界面下,显示孕育前及孕育后铁水测量的数据测量到孕育前及孕育后铁水的过冷度之比显示并能存储已测量的曲线和数据可以对测量平台进行调节和修正8条测量检测线

热分析样杯TA系列

热分析样杯TA系列是配合碳硅分析仪使用的一次性消耗品,因其分析速度快、操作简便、测量可靠、使用成本低等特点,广泛用于铁水成分的现场控制。当贴水倒入样杯后,碳硅分析仪根据冷却曲线捕捉初晶平台温度和共晶平台温度,从而测定并计算出碳当量(CEL)、碳(C)、硅(Si)。型号测量功能TA 00/S 测量碳当量(CEL),过冷度(△T),球化率TA 01/S测量碳当量(CEL),碳含量(C),硅含量(Si)TA 02/S测量球化后碳当量(CEL),碳含量(C),硅含量(Si)TA 01/R测量碳当量(CEL),碳含量(C),硅含量(Si)